Ga2O3 пластина
(13)
JDCD04-001-007 10x10 мм2 (010) Легированная оловом отдельно стоящая монокристаллическая подложка Ga2O3 Класс продукта Одинарная полировка
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Свободностоящий однокристаллический субстрат Ga2O3, Качество продукции Ga2O3 однокристаллическая подложка, 10х10мм2 Га2О3 однокристаллическая подложка
10x10 мм2 (010) отдельно стоящая монокристаллическая подложка Ga2O3, легированная оловом. Качество продукта, одинарная полировка. Толщина 0,6~0,8 мм FWHM<350 угловых секунд, Ra≤0,5 нм. УФ-фильтры
В то время как устройства на основе кремния могут производить относительно эффективные устройства... Посмотреть больше
Связаться сейчас

JDCD04-001-003 10x10mm2 100 ((Off 6°) Fe Допированный свободно стоящий Ga2O3 Однокристаллический субстрат Уровень продукта Однопольная полировка
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Свободно стоящий однокристаллический субстрат Ga2O3, 10х10мм2 Га2О3 однокристаллическая подложка, Субстрат Ga2O3 одиночного Кристл
10x10 мм2 100 (отклонение 6°) отдельно стоящая монокристаллическая подложка Ga2O3 с примесью железа. Полировка продукта.
Плотность мощности значительно выше в устройствах на основе нитрида галлия по сравнению с кремниевыми, поскольку GaN способен поддерживать гораздо более высокие частоты перекл... Посмотреть больше
Связаться сейчас

JDCD04-001-002 10x10mm2 (- 201) Sn-дало допинг свободно стоящему Ga2O3 одиночному Кристл продукт субстрата ранг одиночный полировать
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Свободно стоящий однокристаллический субстрат Ga2O3, Качество продукции Ga2O3 однокристаллическая подложка, 10х10мм2 Га2О3 однокристаллическая подложка
10x10mm2 (- 201) Sn-дало допинг свободно стоящей одиночной кристаллической толщине 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec ранга продукта субстрата Ga2O3 одиночной полируя, сопротивление Ra≤0.3 nm<9e18>
С 1990s, оно было использовано обыкновенно в светоизлучающих диодах (СИД). Нитрид галлия дает с го... Посмотреть больше
Связаться сейчас

Легирование Sn вафли Ga2O3 монокристаллической подложки 10x10 мм2
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Sn Doping Ga2O3 Wafer, 0.8mm Gallium Oxide wafer, Ga2O3 Wafer 10x10mm2
10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.3 nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor materials, and UV filters Among these different phases of Ga2O3, the orthorhombic β-gallia stru... Посмотреть больше
Связаться сейчас

Одиночный бортовой отполированный субстрат одиночного Кристл вафли Ga2O3
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Side Polished Ga2O3 Wafer, 0.6mm gallium nitride substrate, Ga2O3 Wafer UKAS
10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.3 nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor materials, and UV filters Gallium Oxide (Ga2O3) is emerging as a viable candidate for certain c... Посмотреть больше
Связаться сейчас

полировать субстрата 0.6mm 0.8mm Ga2O3 одиночное Кристл одиночный
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Ga2O3 Single Crystal Substrate, Gallium Oxide wafer 0.6mm, 0.8mm Single Crystal Substrate
10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.3 nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor materials, and UV filters Gallium Nitride (GaN) substrate is a high-quality single-crystal subs... Посмотреть больше
Связаться сейчас

Ра 0,3 нм Ga2O3 монокристаллическая эпитаксиальная пластина 2 дюйма 4 дюйма
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Ga2O3 epitaxial wafer 2 Inch, Single Crystal Substrate 4 Inch, single crystal epitaxial wafer
Ra≤0.3nm Single Crystal Substrate Thickness 0.6~0.8mm Orientation (-201) 10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.3 nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor materials, and UV filt... Посмотреть больше
Связаться сейчас

Одиночная отполированная стороной толщина 0.6мм 0.8мм монокристаллической подложки Га2О3
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:side polished Ga2O3 Substrate, 0.8mm Gallium Oxide substrate, Ga2O3 Substrate Single Crystal
Single side polished Ga2O3 Single Crystal Substrate Thickness 0.6~0.8mm 10x15mm2(010)Sn-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.5nm Resistance 2.00E+17Ω/cm-3 Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor m... Посмотреть больше
Связаться сейчас

FWHM<350arcsec Ga2O3 Wafer Single Crystal Substrate Thickness 0.6mm To 0.8mm
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Ga2O3 Wafer 0.6mm, single crystal substrate 0.8mm, Ga2O3 Wafer 0.8mm
FWHM Посмотреть больше
Связаться сейчас

Положение субстрата 10кс10мм2 вафли Га2О3 легированное Фе одиночное кристаллическое свободное
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Ga2O3 Fe Doped Wafer, Single crystal Ga2O3 substrate, Fe Doped Wafer 10x10mm2
10x10mm2 (-201) Fe-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.3 nm Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor materials, and UV filters Ga2O3 has a long history and the phase equilibria of the Al2O3-Ga2O3-... Посмотреть больше
Связаться сейчас

Semiconductor Single Crystal Gallium Oxide Substrate UID Doping
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:Single Crystal Gallium Oxide substrate, semiconductor wafer ISO, Gallium Oxide substrate UID Doping
Ga2O3 Single Crystal Substrate Thickness 0.6~0.8mm FWHM Посмотреть больше
Связаться сейчас

10кс15мм2 УИД допилил полировать свободной стоящей вафли Га2О3 одиночной
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:10x15mm2 Ga2O3 Wafer, UID Doped Ga2O3 Substrate, Ga2O3 Wafer Single Polishing
JDCD04-001-005 10x15mm2(-201)UID-Doped Free-Standing Ga2O3 Single Crystal Substrate Product Grade Single Polishing 10x15mm2(-201)UID-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.5nm Resistance 4.13E+17Ω/cm-3 Optoelectronic ... Посмотреть больше
Связаться сейчас

субстрат вафли Ga2O3 10x15mm одиночное Кристл 10x10mm
Цена: Negotiable
MOQ: Negotiable
Срок поставки: 3-4 week days
Бренд: GaNova
Выделять:10x10mm Ga2O3 Wafer, 10x15mm single crystal wafer, Ga2O3 Wafer 10x15mm
10x15mm2(-201)UID-doped free-standing Ga2O3 single crystal substrate Product grade single polishing Thickness 0.6~0.8mm FWHM<350arcsec,Ra≤0.5nm Resistance 4.13E+17Ω/cm-3 Optoelectronic devices, insulating layers of semiconductor materials, and UV filters With increased energy efficiency, smaller req... Посмотреть больше
Связаться сейчас